為一、二、三代半導體晶圓等材料的CMP制程提供材料整體解決方案。
映智研磨為半導體CMP國產(chǎn)化而創(chuàng)新
映智研磨
為半導體CMP國產(chǎn)化而創(chuàng)新
上海映智研磨材料有限公司
LAPPING&POLISHING
上海映智研磨材料有限公司由張澤芳博士為核心的CMP研究團隊共同創(chuàng)建于2013年，主營業(yè)務為半導體及其他產(chǎn)業(yè)CMP制程材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。目前公司產(chǎn)品包括：用于集成電路拋光中研磨顆粒(高純度硅溶膠)、半導體襯底及其他材料CMP制程所必須的拋光液和拋光墊三大種類，應用領域涵蓋：
1）大硅片、砷化鎵、碳化硅等半導體晶圓的CMP制程
2）集成電路CMP制程
3）其他類（LED藍寶石襯底、消費類電子及光學金屬、玻璃等）CMP制程
2）集成電路CMP制程
3）其他類（LED藍寶石襯底、消費類電子及光學金屬、玻璃等）CMP制程
關于我們ABOUT US
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ABOUT US
上海映智研磨材料有限公司創(chuàng)建于2013年，多年來，公司以自主 創(chuàng)新為本，集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及技術服務為一體，主營業(yè)務主營業(yè) 務為半導體及其他產(chǎn)業(yè)CMP制程材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。